LLM 驅動缺陷生成，解決稀有樣本痛點
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利用大型語言模型（LLM）智能化合成千級缺陷樣本，打破資料不足瓶頸，快速產出多樣化訓練資料，標註工時減少80%，大幅提升模型泛化能力。
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結合我們自主研發的缺陷生成與標註系統，從亮度調整、縮放到顏色變換，LLM 強化每一筆缺陷細節，助力AI模型更精準地辨識微小瑕疵。
ADC 系統 × LLM：即時回訓、自適應優化
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通用模型核心 + LLM 驅動回訓策略：系統自動收集異常預測樣本，透過混淆檢視器迅速分析問題，並在後台自動觸發再訓練流程，確保模型準確率持續領先。
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彈性參數調整與權限管理：依尺寸、面積、位置、分數等多維條件，即時微調檢測敏感度，滿足客戶各類工藝需求，同時保留完整操作與Log紀錄，確保資訊可追溯。
高速運算平台，零等待體驗
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搭載最新NVIDIA GPU加速與系統最佳化整合，實現毫秒級推論速度，當前機台利用率大幅提升，減少漏檢與過檢，讓良率監控更即時、更精準。
綜合解決方案，多面檢測與行為監控
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多面檢測機台：震動盤進料＋六面拍攝，一站式高速全檢，小零件MLCC等產線應用無縫銜接。
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AI SOP行為監控：結合LLM與視覺演算法，實時抓取異常操作，主動警報並完整記錄，優化人機協作品質。
展會日期：8月20日 – 23日 （週三 – 週六）
展覽地點：臺北南港展覽館 1館 K區112攤位
現場重磅互動：
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LLM助力缺陷生成實機演示
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ADC即時回訓與混淆檢視互動體驗
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多面檢測＋行為監控一體化解決方案
歡迎蒞臨 K-112 攤位，與我們一起見證AI × LLM的檢測新世代！