AutoOM 晶圓檢查系統
工具顯微鏡整合自動化 (EFEM),兼具 SECS/GEM、自動結果量測與分析功能
【應用場景】
適用於半導體晶圓/玻璃量檢測,常見檢測項目:
Arrow shadow Bubble Gel Under/Over-develop Miss-alignment EBR abnormal Particle Scratch Oxidation 凸瘤缺點 表面粗糙 EBR 殘銅 表面殘留 翹曲度 Bump 共面度
工具顯微鏡整合自動化 (EFEM),兼具 SECS/GEM、自動結果量測與分析功能